M2340 教學大綱表

教學大綱表 (103學年度第2學期)

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課程名稱 Course Title	(中文) 半導體工程導論 (英文) Introduction To Semiconductor Engineering			開課單位 Departments	機械與材料工程學系
				課程代碼 Course No.	M2340
授課教師 Instructor	魏哲弘
學分數 Credit	3.0	必/選修 core required/optional	選修	開課年級 Level	大二
先修科目或先備能力(Course Pre-requisites)：無
課程概述與目標(Course Overview and Goals)：瞭解半導體製程基本理論與實務
教科書(Textbook)	Hong Xiao, 半導體製程技術導論羅正忠張鼎張譯歐亞書局 2008年
參考教材(Reference)	無

課程大綱 Syllabus			學生學習目標 Learning Objectives	單元學習活動 Learning Activities	學習成效評量 Evaluation	備註 Notes
序 No.	單元主題 Unit topic	內容綱要 Content summary	學生學習目標 Learning Objectives	單元學習活動 Learning Activities	學習成效評量 Evaluation	備註 Notes
1	導論	1. 半導體的歷史 2. 簡短回顧	瞭解何謂半導體	講授媒體教學
2	積體電路生產的簡介	1. 簡介 2. 良率 3. 無塵室基礎 4. 積體電路工廠的基本結構	瞭解積體電路生產流程	講授閱讀討論
3	半導體的基礎	1. 半導體的基礎 2. 基本的元件 3. 積體電路晶片 4. 基本的積體電路製程 5. CMOS 6. 1990以後的技術趨勢	瞭解半導體的基本理論	講授閱讀討論
4	晶圓製造	1. 簡介 2. 為什麼要用矽? 3. 晶體結構與缺陷 4. 從矽到晶圓 5. 磊晶成長	瞭解晶圓的生產流程	討論講授閱讀討論
5	加熱製程	1. 簡介 2. 氧化	瞭解加熱製程及其應用	討論講授心得發表閱讀討論
6	加熱製程	1. 擴散 2. 退火	瞭解加熱製程擴散及退火	講授媒體教學閱讀討論
7	微影技術	1. 簡介 2. 何謂光阻 3. 微影步驟	瞭解何謂微影	討論講授媒體教學閱讀討論
8	微影技術	1. 微影製程步驟 2. 微影技術的趨勢	瞭解微影技術	討論講授媒體教學心得發表
9	期中考	課程前半段的期中考	期中考		報告
10	電漿的基礎原理	1. 簡介 2. 電漿的定義 3. 電漿中的碰撞 4. 電漿的參數	瞭解何謂電漿	討論講授閱讀討論
11	電漿的應用	1. 離子轟擊 2. 直流偏壓 3. 電漿製程的優點 4. PECVD	瞭解電漿形成機制及應用	討論講授閱讀討論
12	離子佈植	1. 簡介 2. 離子佈植的基礎 3. 離子佈植的硬體 4. 離子佈植製程 5. 安全性	瞭解離子佈植原理及應用	討論講授媒體教學閱讀討論
13	蝕刻	1. 蝕刻簡介 2. 蝕刻的基礎 3. 濕式蝕刻製程	瞭解蝕刻原理	討論講授閱讀討論
14	蝕刻	1. 乾式蝕刻製程 2. 電漿蝕刻製程 3. 製程趨勢	瞭解蝕刻應用	討論講授媒體教學個案研究閱讀討論
15	化學氣相沉積	1. 簡介 2. 化學氣相沉積 3. CVD製程 4. SOG 5. 高密度電漿CVD	瞭解 CVD	講授媒體教學閱讀討論
16	介電薄膜	1. 介電薄膜的特性 2. 介電薄膜CVD製程 3. 介電薄膜CVD製程 4. SOG	瞭解介電薄膜	講授媒體教學心得發表協同教學
17	專題報告	半導體或LED相關之專題報告	結合理論將其應用於實作	實作心得發表
18	期末考	期末考	整體成效檢驗	心得發表	期末考

教學要點概述：
1.自編教材 Handout by Instructor：
□ 1-1.簡報 Slids
□ 1-2.影音教材 Videos
□ 1-3.教具 Teaching Aids
□ 1-4.教科書 Textbook
□ 1-5.其他 Other
□ 2.自編評量工具/量表 Educational Assessment
□ 3.教科書作者提供 Textbook

成績考核 Performance Evaluation：報告：15% 平時考：40% 期末考：30% 其他評量：15%

教學資源(Teaching Resources)：
□ 教材電子檔(Soft Copy of the Handout or the Textbook)
□ 課程網站(Website)
扣考規定：https://curri.ttu.edu.tw/p/412-1033-1254.php