課程大綱 Syllabus |
學生學習目標 Learning Objectives |
單元學習活動 Learning Activities |
學習成效評量 Evaluation |
備註 Notes |
序 No. | 單元主題 Unit topic |
內容綱要 Content summary |
1 | 真空概論 |
1. 真空定義
2. 真空科學與技術發展
3. 壓力與真空範圍 |
認識真空 |
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2 | 氣體分子動力論 |
1. 分子運動理論與平均自由徑
2. 理想氣體方程式與氣體傳輸現象
3. 氣流通量與氣導
4. 分子流、層流與紊流
5. 氣體的吸附與脫附 |
認知氣體分子動力論 |
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3 | 電漿基礎 |
1. 電漿理論
2. 直流與射頻放電系統
3. 微波與電弧放電系統 |
認識電漿及放電系統 |
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4 | 真空幫浦 |
1. 正排氣式幫浦
2. 動力式幫浦
3. 儲氣式幫浦
4. 真空幫浦性能檢測 |
瞭解真空幫浦 |
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5 | 真空度量 |
1. 機械式真空計
2. 熱導式真空計
3. 離子真空計
4. 流量計 |
學習真空度量 |
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6 | 真空材料與元件 |
1. 真空材料
2. 真空封合
3. 真空閥門與引入
4. 真空附件 |
認識真空材料與元件 |
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7 | 真空系統整合 |
1. 真空系統分類與組配
2. 真空腔體設計
3. 真空抽氣次系統設計
4. 真空管路次系統設計
5. 超高真空系統整合 |
瞭解真空系統整合 |
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8 | 真空校正 |
1. 真空標準理論基礎與規範
2. 傳遞標準件
3. 真空計校正系統設計
4. 真空計校正程序與不確定度評估 |
瞭解真空校正 |
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9 | 真空測漏 |
1. 真空測漏原理與方法
2. 氦氣測漏儀
3. 測漏實務 |
瞭解真空測漏原理及方法 |
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10 | 真空科技應用 |
真空科技於基礎研究及半導體、平面顯示器、發光二極體與太陽能產業應用簡介 |
認識真空科技應用 |
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11 | 半導體真空製程與設備(一) |
1. 物理汽相沉積薄膜技術簡介
2. 離子輔助電子槍蒸鍍與磁控濺鍍技術
3. 脈衝雷射蒸鍍與分子束磊晶技術 |
認識半導體真空製程及設備 |
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12 | 半導體真空製程與設備(二) |
1. 化學汽相沉積薄膜技術簡介
2. 電漿輔助化學汽相沉積技術
3. 有機金屬化學汽相沉積技術 |
認識半導體真空製程與設備 |
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13 | 半導體真空製程與設備(三) |
1. 電漿蝕刻原理
2. 電感耦合式電漿蝕刻系統
3. 電漿蝕刻製程技術 |
認識半導體真空製程與設備 |
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14 | 半導體真空製程與設備(四) |
1. 原子層製程與設備技術簡介
2. 電漿原子層沉積技術
3. 電漿原子層蝕刻技術 |
認識半導體真空製程與設備 |
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15 | 真空冶金 |
1. 真空冶金基礎
2. 真空精煉
3. 真空冶金工業製程與應用 |
認識真空冶金 |
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16 | 真空熱處理 |
1. 真空熱處理理論
2. 真空熱處理製程與設備
3. 真空表面改質技術 |
瞭解真空熱處理理論、製程、設備及技術 |
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17 | 科學儀器應用(一) |
1. 范式加速器、電子同步加速器與儲存環真空系統設計
2. 核融合工程與真空系統 |
學習真空科學儀器之應用 |
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18 | 科學儀器應用(二) |
1. 穿透式電子顯微鏡原理
2. 穿透式電子顯微鏡真空系統
3. 穿透式電子顯微鏡光學系統
4. 原子解析度相差修正掃描穿透式電子顯微鏡應用實務 |
學習真空科學儀器之應用 |
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