X3600 教學大綱表

教學大綱表 (111學年度第2學期)

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課程名稱 Course Title	(中文) 半導體製程技術 (英文) Semiconductor Manufacturing Technology			開課單位 Departments	材料工程學系
				課程代碼 Course No.	X3600
授課教師 Instructor	施文欽
學分數 Credit	3.0	必/選修 core required/optional	選修	開課年級 Level	大三
先修科目或先備能力(Course Pre-requisites)：普通物理
課程概述與目標(Course Overview and Goals)：使同學對半導體製程技術與現況有深入的瞭解
教科書(Textbook)	李克駿李克慧李明逵編著 "半導體製程概論" 第四版全華圖書公司
參考教材(Reference)	劉文超、半導體製造技術、滄海書局

課程大綱 Syllabus			學生學習目標 Learning Objectives	單元學習活動 Learning Activities	學習成效評量 Evaluation	備註 Notes
序 No.	單元主題 Unit topic	內容綱要 Content summary	學生學習目標 Learning Objectives	單元學習活動 Learning Activities	學習成效評量 Evaluation	備註 Notes
1	前言半導體與積體電路發展史	History Transistor IC IC semiconductor processes	Overview of semiconductor history
2	第一章晶體結構與矽半導體物理特性	Atomic model and Periodic table Crystal structure Material conductivity (Dopant, n-type and p-type)	Review of General Chemistry
3	第二章半導體能帶與載子傳輸	Energy band Resistivity and stress resistance Carrier transport	Review of General Physics
4	第三章化合物半導體晶體結構與物理特性	Compound semiconductors Crystal structure and energy band of Gallium Arsenide Crystal structure and energy band of Gallium Nitride Crystal structure and energy band of Silicon Carbide	Review of General Materials
5	第十章矽晶棒之生長	Starting materials Silicon ingot growth (CZ and FZ) Dopants distribution in crystal growth Crystal defects	Understand of Silicon wafer fabrication
6	第十一章矽晶圓之製作	Crystal orientation Orientation Sawing and Polishing Benefit analysis of 12 inch wafer	Study of silicon wafer
7	第十三章矽磊晶生長	Epitaxial layer Silicon epitaxy Growth process of Si epitaxial layer	Studies of epitaxial layer
8	第十四章　矽磊晶系統	Si epitaxy system Evaluation of Si epitaxy system	介紹薄膜沈積機制與技術
9	期中考	瞭解同學學習成效	瞭解同學學習成效
10	第十六章矽氧化膜生長	Thermal oxidation furnace Si oxidation process Dry and wet oxidation and thickness Redistribution of dopant during thermal oxidation	Studies of Si oxidation
11	第十七章矽氧化膜生長機制	Silicon dioxide and oxidation Oxide mechanism Quality evaluation of silicon dioxide film Quality improvement of silicon dioxide film	介紹微影技術之原理與應用
12	第十八章摻雜質之擴散植入	Diffusion process The predeposition and drive in Distribution of diffusion	Studies of diffusion
13	第十八章摻雜質之擴散植入	Ion implantation Annealing	Studies of ion implantation
14	第二十章微影技術	Lithography Fabrication of mask Photolithography Resolution enhancement techniques	Studies of photolithography
15	第二十一章蝕刻技術	Wet etching of Si and compound semiconductors Dry etching	Studiesof wet and dry etchings
16	第二十二章化學氣相沉積	CVD procedures Plasma CVD Photo-CVD Atomic layer deposition	Studies of CVD
17	第二十三章金屬接觸與沉積	Requirements of metalization Vacuum deposition Deposition techniques Alloy and annealing	Studies of CVD and PVD
18	期末考	瞭解同學學習成效	瞭解同學學習成效

教學要點概述：
1.自編教材 Handout by Instructor：
□ 1-1.簡報 Slids
□ 1-2.影音教材 Videos
□ 1-3.教具 Teaching Aids
□ 1-4.教科書 Textbook
□ 1-5.其他 Other
□ 2.自編評量工具/量表 Educational Assessment
□ 3.教科書作者提供 Textbook

成績考核 Performance Evaluation：期末考：20% 期中考：20% 其他評量：20% 報告：30% 作業：10%

教學資源(Teaching Resources)：
□ 教材電子檔(Soft Copy of the Handout or the Textbook)
□ 課程網站(Website)
教學相關配合事項：其他評量:點名一堂課未到,扣總平均兩分，遲到或請假扣一分。
扣考規定：https://curri.ttu.edu.tw/p/412-1033-1254.php